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Metallization technology for tenth-micron range integrated circuits. CRADA final report for CRADA number ORNL92-0104

机译：用于第十微米范围集成电路的金属化技术。 CRaDa最终报告为CRaDa编号ORNL92-0104

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Berry, L.A.; Gorbatkin, S.M.; Rossnagel, S.M.; Harper, J.M.E.;
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年度 1996
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